Tantala sakausējums - 111

Baoji Yusheng Metal galvenokārt ražo volframu, molibdēnu, tantalu, niobiju, cirkoniju, hromu, titānu, niķeli, vanādiju, kobaltu, hafniju un to sakausējumus plākšņu, lokšņu, sloksņu, foliju, stieņu, stiepļu, cauruļu un citu tradicionāli apstrādātu veidā. profili, kā arī laivas, tīģeļi, izsmidzināšanas mērķi, pārklājuma mērķi, mehāniski apstrādātas detaļas, augstas temperatūras krāsns izolācijas sieti, sildelementi, krāsns korpusi (sildīšanas krāsnis, rūdīšanas krāsnis), korozijizturīgas iekārtas un citi dziļi apstrādāti izstrādājumi. Produktus galvenokārt izmanto safīra kristāla krāsns, vakuuma krāsns, monokristāliskā silīcija krāsns, pusvadītāju jonu implantācijas, metāla pulvera iesmidzināšanas, vakuuma pārklājuma, augstas temperatūras krāsns, stikla šķiedras, metalurģijas, naftas ķīmijas, kosmosa, farmācijas, medicīnas aprīkojuma, pārtikas, jūras, automobiļu, būvniecības, rūpnieciskās keramikas, vides aizsardzības inženierzinātņu un citās nozarēs. Mūsu produkti ir pārdoti visā pasaulē, tostarp ASV, Japānā, Vācijā, Austrālijā, Kanādā, Dienvidaustrumāzijā un citos reģionos.

Sakausējuma sastāva ietekme uz trausluma problēmu samazināšanu tantala sakausējumā T-111

Tika pētīti tantala sakausējuma - 111 novecošanās trausluma pamatcēloņi un sakausējuma izmaiņu ietekme. Rezultāti atklāj, ka T-111 ir izšķiroša volframa un hafnija attiecība, kas izraisa elastības samazināšanos pie -196 C pēc novecošanas aptuveni 1040 C temperatūrā. Tika atklāts, ka tas notiek tāpēc, ka volframs veicina hafnija segregāciju. līdz graudu robežām, kas palielina jutību pret ūdeņraža trauslumu. Tantala sakausējumi ar zemāku volframa vai hafnija koncentrāciju neuzrādīja novecošanās trauslumu; tomēr lielākajai daļai pētāmo sakausējumu stiprība ir zemāka par T-111 un tie ir jutīgi pret ūdeņraža trauslumu.

820 un 990 C temperatūrā skābeklis tika piegādāts ar spiedienu aptuveni 0,0003 torr. Metode ļāva paredzēt tantala sakausējuma skābekļa dopingu. (T-111). Saskaņā ar dopinga reakcijas atkarību no temperatūras, skābekļa šķīdums T-111 režģī, visticamāk, ir tas, kas regulē pirmos skābekļa uzņemšanas ātrumus. Leģētajos paraugos dominē tantala un volframa oksīdi, iespējams, tāpēc, ka sakausējumā ir lielāks tantala un volframa daudzums, neskatoties uz to, ka hafnija oksīdi ir stabilāki nekā tantala vai volframa oksīdi. Tomēr rūdīšana augstā temperatūrā veicina hafnija oksīdu veidošanos, veicinot citu oksīdu un izšķīdušā skābekļa oksidēšanos.