Mūsdienās Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. nosūtīja tantaluma mērķi. Tantalum mērķa lielums ir liels, ar izsmalcinātu ražošanas tehnoloģiju un gludu un spilgtu virsmu. Mērķim ir augsts plakanums un ļoti plakana virsma. Virsmas tīrība ir augsta, un uz virsmas nav eļļas, putekļu un oksīda.
Yusheng Metal var izmantot dažādus procesus, lai sasniegtu mērķus atbilstoši klienta prasībām.
Vakuuma kušanas metode:
Process: izkausē tantalum metālu vakuuma vidē.
Priekšrocības: Izvairieties no oksidācijas un piemaisījumiem, lai nodrošinātu augstu mērķa tīrību.
Karstā izostatiskā presēšanas tehnoloģija:
Process: izmantojiet augstu temperatūru un augstu spiedienu, lai blīvētu tantaluma pulveri mērķī.
Priekšrocības: rada augsta blīvuma un vienmērīgu mērķa struktūru.
Elektronu staru kūsošanās metode:
Funkcijas: izmantojiet elektronu staru kā siltuma avotu, lai izkausētu tantalum metālu.
Priekšrocības: kušanas procesu var precīzi kontrolēt, lai uzlabotu mērķa vienveidību un tīrību.
Plazmas griešanās pārklājuma tehnoloģija:
Funkcijas: nogulsnes tantaluma materiāls uz rotējoša pamatnes, izmantojot plazmas tehnoloģiju.
Priekšrocības: spēj iegūt mērķus ar īpašām mikrostruktūrām īpašām lietojumprogrammām.
