1. Izgrieziet vajadzīgās tīrības vanādija lietni atbilstoši mērķa izmēram, izmantojot horizontālo zāģmašīnu, uzsildiet par 450-500 grādu, pēc tam kalšanas un regulējiet kalšanas kopējo deformācijas ātrumu līdz 70-80%;
2. Atlaidiet kalto vanādija stieņu temperatūrā 400-500 grādi un turēšanas laiku 60-120 min, un pēc tam atdzesējiet to ar gaisa dzesēšanu;
3. Ritiniet atkvēlināto vanādija lietni un kontrolējiet katras gājiena presēšanas apjomu līdz 0.5-1mm, un kontrolējiet kopējo deformāciju līdz 70-80%, līdz vanādija mērķa sagatave tiek iegūts nepieciešamais diametrs un biezums;
4.Vēlreiz rūdiet velmēto vanādija mērķa sagatavi 450-550 grādu temperatūrā un turēšanas laiku 90-150min. Pēc atkārtotas atkausēšanas to atdzesē ar ūdeni, lai iegūtu nepieciešamo augstas tīrības pakāpes vanādija mērķa sagatavi.
Šādā veidā sagatavotajai vanādija mērķa sagatavei ir ne tikai vienota iekšējā struktūra, bet arī smalko graudu priekšrocība.
Mērķa materiālam ir jābūt ar augstu tīrības pakāpi, mazāku piemaisījumu daudzumu, vienmērīgu ķīmisko sastāvu, bez segregācijas, bez porām, vienmērīgai graudu struktūrai un graudu izmēram no mikrometra līdz milimetram. Graudu izmēra atšķirībai vienā izsmidzināšanas objektā ir jābūt pēc iespējas mazākai. Tādā veidā nav viegli radīt izlādes parādību magnetrona izsmidzināšanā, un magnetrona izsmidzināšanas plēve ir viendabīga.
Vanādija mērķa pielietojums
Izmanto saules enerģijas, plakano paneļu displeju, elektronikas un pusvadītāju jomās, piemēram, integrālajās shēmās, aizmugurējās plāksnes metalizācijā, optoelektronikā un citās lietojumprogrammās.
