Metāla mērķisIzsmidzināšanas pamati
Mērķis ir vienkārši elektronu izmantošana vai lielas enerģijas lāzera bombardēšana pārklājumu izsmidzināšanai. Visbeidzot, virsmas komponenti tiek nogulsnēti uz substrāta virsmas pēc izsmidzināšanas kā atomu grupas vai joni, iziet cauri plēves veidošanas procesam un izveidojot plānu plēvi.
Izsmidzināšanas pārklājumi ir pieejami dažādās šķirnēs. Parasti tie ir iztvaikošanas pārklājums. Izputināšanas ātrums būs viens no galvenajiem parametriem, kas ir atšķirība. Lāzera izsmidzināšanas pārklājums pld izsmidzināšanas pārklājumā ir vienkārši, lai saglabātu vienmērīgu sastāvu, bet biezuma viendabīgums atomu mērogā ir salīdzinoši zems (jo tā ir impulsa izsmidzināšana), un kristāla orientācijas (ārmalas) augšanas kontrole ir samērā vispārīga.
Režģa atbilstības pakāpe starp substrātu un mērķa materiālu, pārklājuma vide (zema spiediena gāzes atmosfēra), substrāta temperatūra, lāzera jauda, impulsa frekvence un izsmidzināšanas laiks ir svarīgi parametri pld, piemēram. . Ideāli parametri ir nepieciešami dažādiem substrātiem un izsmidzināšanas materiāliem. Saskaņā ar eksperimentiem tie ir atšķirīgi. Pārklāšanas iekārtu spēja precīzi pārvaldīt temperatūru, nodrošināt labu vakuumu un uzturēt tīru vakuuma kameru ir trīs galvenie faktori, kas nosaka tā kvalitāti.
