Parastās specifikācijas galvenokārt ir 1–10 mm (sfēriskas vai neregulāras daļiņas), un tīrība parasti svārstās no 99,9% vai vienāda ar to (3N) līdz 99,99% (4N). Galvenais uzsvars tiek likts uz augstu tīrību un zemu piemaisījumu saturu (zems skābekļa saturs, zems cirkonija saturs).
Galvenās īpašības - Blīvums: ≈13,31 g/cm³ (augsts blīvums); Kušanas temperatūra: 2233 grādi (ugunsizturīgs metāls); Izskats: sudraba -pelēks metālisks spīdums, ar blīvu un pasivētu virsmu (HfO₂ plēve); Galvenās īpašības: augsts neitronu absorbcijas šķērsgriezums (aptuveni 104 mērķa en), izturība pret augstu temperatūru, izturība pret koroziju, zems tvaika spiediens; Galvenās formas un apstrāde - Granulas: pārsvarā izgatavotas no fragmentiem/maļļošanas, ar plašu daļiņu izmēru sadalījumu, piemērotas procesiem ar ātru padevi un lielu kontakta laukumu; Granulas: galvenokārt veidojas presējot/lejot, ar vienādu izmēru (piemēram, 3 × 3 mm, 2 × 5 mm), piemērotas precīziem barošanas scenārijiem, piemēram, vakuuma iztvaicēšanai, PVD pārklājumam; Tipiski pielietojumi 1. Kodolrūpniecība: reaktora vadības stieņi, neitronu absorbētāji, aizsargmateriāli, kas paļaujas uz augstu neitronu absorbcijas šķērsgriezumu, lai regulētu reakcijas ātrumu; 2. Elektronika/pusvadītāji: izejmateriāls PVD pārklājumam, ko izmanto augstas dielektriskās konstantes HfO₂ plānas kārtiņas sagatavošanai uzlabotiem skaidu aizbīdņu dielektriķiem, optiskiem un nodilumizturīgiem pārklājumiem; 3. Augsta temperatūra/aviācija: piedevas augstas temperatūras sakausējumiem (lai uzlabotu volframa/tantala/molibdēna sakausējumu šļūdes izturību un augstas temperatūras izturību), raķešu sprauslas un citi īpaši augstas temperatūras komponenti; 4. Ķīmiskā un metalurģijas rūpniecība: Getteri (skābekļa/slāpekļa piemaisījumu noņemšanai), pret koroziju izturīgi pārklājumi (piemēram, hafnija karbīds HfC), katalizatoru prekursori; Iepakojums un uzglabāšana: jābūt vakuuma noslēgtam, lai izvairītos no oksidēšanās un mitruma absorbcijas; darbību ieteicams veikt inertā atmosfērā (argons); Procesa pielāgošanās spēja: Granulas, kas piemērotas scenārijiem ar ātru padevi un lielu reakcijas laukumu; Granulas ir vairāk piemērotas precīzai barošanai, piemēram, vakuuma iztvaicēšanai, PVD utt
